고객, 자사, 경쟁사 분석을 통해 기업이 현재 처한 위치를 확인할 수 있다. 기업이 현재 어떤 곳에 있고, 고객은 어떤 집단으로 설정되어 있는지, 경쟁사에 비해 어떤 비교 우위 전략을 가졌는지 살펴보자.

Analysis 1
ASML는 B2B 기업으로서 삼성전자, 인텔 등반도체 칩메이커 기업을 주 고객으로 한다. 이들을 대상으로 반도체 생산 장비를 판매하고 유지, 보수 서비스를 하고 있다. ASM코리아가 협력하는 한국의 클라이언트는 네덜란드 본사에서도 최우선으로 생각하는 핵심 고객이다. ASML코리아는 SAMSUNG Electronics, SK Hynix, Dongbu Hitek, DONGJIN SEMICHEM, FAIRCHILD Korea, KANC, KEC, MagnaChip, SEMCO, Wisol 등 클라이언트의 니즈에 부합하는 기술력을 제공하고 있다. 특히 국내 반도체 소자업체의 신규 설비 투자 중 90%를 삼성전자와 SK하이닉스가 진행하며, ASML코리아의 주 고객사 역시 삼성전자와 SK하이닉스가 된다.

ASML은 1984년 네덜란드에서 반도체 공정의 핵심장비인 리소그래피 생산 기업으로 설립되었다. 반도체 리소그래피 시스템 분야의 세계적인 선두주자로서 집적회로를 실리콘에 프린팅하는 최첨단 기술을 제공하는 네덜란드 기업이다. ASML은 현재 16개국 60여개의 도시에서 19,000여명 이상의 직원들이 협력하여 근무하고 있다. 115개 이상 국적의 다양한 경력과 전문성을 갖춘 직원들이 긴밀히 협력하여 제품을 개발하는 다원화된 조직이다.

ASML 코리아는 1996년 한국에 창설되었다. ASML은 첫 장비를 도입한 지 얼마 지나지 않아 한국의 유수 반도체 생산업체들에게 ASML의 기술력을 인정받기 시작했고, 현재도 국내 굴지의 반도체 생산 기업들과 함께 우수한 반도체를 생산하는 데에 핵심적인 공헌을 하고 있다. ASML 코리아는 최신 기술 장비를 다방면으로 지원하고 ASML 장비 성능 유지 서비스를 제공하고 있다. 뿐만 아니라 다양한 국가에서 활약하고 있는 한국 엔지니어들은 각 국가의 고객들에게도 최상의 기술 서비스를 제공하고 있다. 1,100명 이상의 우수한 인재가 모여있는 ‘세계적인 반도체 장비 기업’으로 도약하고 있다.

국내 반도체 메이커들은 전공정 설비의 70%가량을 외국산 제품에 의존하고 있다. ASML, 어플라이드머티리얼즈, 램리서치 등이 시장을 과점한다. 현재 반도체 공정 중 리소그래피 공정을 처리할 수 있는 기업은 ASML과 니콘, 캐논 정도이다. 니콘과 캐논을 경쟁사로 꼽아볼 수는 있지만, 반도체용 노광 장비로는 ASML이 압도적인 우위에 있다. EUV 장비를 개발하고 있는 곳은 ASML이 유일하다.

캐논은 반도체용 노광 장비를 생산할 수는 있으나 디스플레이용 장비에 더 집중하고 있는 추세이다. 캐논은 과거 전통적 노광 장비 분야에서 일정한 점유율을 갖고 있었으나 ArF 세대에선 제품 개발에 실패해 사실상 시장에서 퇴출된 바 있다. 극자외선(EUV) 노광 기술 역시 상용화가 어려울 것이라고 판단, 연구개발(R&D)을 포기했다. 그러나 NIL 기술에 대해 꾸준히 R&D를 진행해왔다.

EUV 노광 외 주목받는 차세대 리소그래피 기술로는 나노임프린트 리소그래피(NanoImprint Lithography, NIL), DSA(Directed Self-Assembly)가 있다. NIL은 2003년 국제반도체기술로드맵(International Technology Roadmap for Semiconductor, ITRS)에서 32나노 이하의 선폭을 실현할 수 있는 새로운 방법론으로 소개된 기술이다.

2014년 2월에는 NIL 관련 유망 벤처인 몰티큘러 임프린트(Molecular Imprints)를 인수했으며, 캐논과 몰티큘러 임프린트는 그간 도시바와 함께 NIL의 적용 방안을 놓고 협력 관계를 이어왔다. 캐논 측은 ArF 이머전 장비로 4회(쿼드)의 패터닝을 진행하는 경우라면 전체적인 제조 비용은 NIL이 더 낮다고 강조하고 있다. 다만 NIL은 EUV와 비교해 패턴 형성의 자유도가 떨어지기 때문에 일정한 패턴을 유지하는 낸드플래시 메모리 생산에 우선 적용될 것으로 보인다.

니콘은 1990년대 광학기술을 결집한 노출 공정 관련 반도체 제조장치 사업에서 세계 시장 선두를 달렸다. 그러나 최근 네덜란드 반도체 장비업체인 ASML에 밀려 계속 적자를 보고 있다. 니콘은 적자가 계속되는 반도체 제조장치와 시장이 축소하는 카메라 사업을 중심으로 2~3년 내 인력을 줄이고 의료기기를 비롯한 신사업을 발굴하기로 했다.

니콘은 반도체 리소그래피를 생산하고 있으나, 현재 EUV와 관련된 부분은 진행이 없다. 소자 업체들의 공정 미세화에 관한 요구가 최근 들어 크게 늘어나고 있어 불화아르곤(ArF) 이머전 노광 장비를 출하하는 데에 집중하고 있다. 니콘은 디스플레이 업계의 화두인 10.5세대(2740mm X 3370mm)급 장비를 생산할 수 있다. 니콘은 현재와 같은 미세화 추세가 계속될 경우 2025년 6나노의 공정에 접어들어 미세화의 한계에 부닥칠 것이라며, EUV를 사용하지 않더라도, ArF 이머전 노광 인프라와 다(多) 패터닝 조합으로 6나노 공정까지 갈 수 있다고 보고 있다.

세계 최대 반도체 업체인 인텔이 450㎜ 웨이퍼용 노광 장비를 개발하기 위해 수백억엔의 개발비를 니콘에 지원하였다. 인텔은 EUV 노광 장비를 독점 개발하고 있는 ASML에도 EUV 및 450㎜ 장비 개발을 위한 투자를 단행한 바 있다.