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반도체엔지니어
2020 하반기 신입 삼성전자㈜
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- 삼성전자를 지원한 이유와 입사 후 회사에서 이루고 싶은 꿈을 기술하십시오.
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"회사와 함께 성장하는 엔지니어"
저는 ‘높은 목표를 가지고, 나날이 발전해가는 삶’이라는 가치를 가장 중요하게 생각합니다. 삼성전자는 메모리 1위 자리에 있지만, 기술력을 더욱 강화해가며 더 높은 목표로 전진하고 있습니다. ‘안주하지 않고, 지속적인 성장’을 가치관이라고 생각하는 저에게 이러한 점은 삼성전자를 지원한 가장 큰 기준이 되었습니다.
저는 지원 동기에 어울리는 인재가 되기 위해 다음과 같은 경험을 하였습니다.
1) 반도체 물리 및 소자, 광학을 공부하고 Photolithography 역량을 쌓은 점
2) 채널 길이가 다른 TFT 반도체 소자를 측정 및 분석한 점
3) 반도체 공정 수업과 연구실을 통해 공정 경험을 쌓은 점
"최고의 노광 공정기술을 선도하는 엔지니어"
삼성의 메모리 분야 독보적 세계 1위 유지를 위해, EUV 공정 안정화와 세계 기술 선도에 힘을 더하고 싶습니다. 이를 위해서 저는 입사 3년 동안은 1등 선배님들의 실무능력을 빠르게 흡수하여, 노광 공정의 수율 관리 및 개선하는 엔지니어로 활약하겠습니다. 그리고 10년 동안은 Resolution 및 DOF를 개선한 최신의 EUV 기술을 개발하고, 그에 관련된 특허를 매년 1건 이상 출원하겠습니다. EUV의 능통한 Photo 엔지니어가 되어 최종 목표인 삼성전자의 메모리 독보적 세계 1위 유지에 기여하겠습니다.
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- 본인의 성장과정을 간략히 기술하되 현재의 자신에게 가장 큰 영향을 끼친 사건, 인물 등을 포함하여 기술하시기 바랍니다. (※작품속 가상인물도 가능)
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"소자 공정 및 분석- 공정 엔지니어로서 성장"
‘TFT(Thin Film Transistor) 소자, 소재 및 분석’은 반도체의 이해를 높여주었으며, 공정의 성취감과 즐거움을 가르쳐주었습니다. 채널의 길이가 10, 20, 50μm로 다른 TFT 소자를 Probe station을 이용해 측정했습니다. 이후, 이론값과 측정된 Vth, I_on, I_off, Mobility 값을 엑셀로 정리하고 I-V 커브로 표현하였습니다. 채널 길이가 증가할수록 Mobility는 증가하고, I_ds 값은 감소하는 경향을 확인하였고, 물리적으로 분석해보며 반도체에 대한 이해를 높일 수 있었습니다.
이후, class 10의 클린룸에 방진복을 입고 들어가, Photo 공정을 진행하였습니다. Contact 방식의 장비를 사용하여 마스크 오염 및 정렬 key가 어긋나는 패터닝 문제가 발생하였고, 5번의 재실험 속에서 tact time 단축을 위해선 매우 정확하고 섬세한 공정의 중요성을 느꼈습니다. 또한, 문제 해결에서 오는 즐거움과 성취감은 저를 공정 엔지니어로 성장시켜주었습니다. 실험에서 느꼈던 공정장비 정확도의 중요성과 반도체 지식을 활용하여, 메모리 반도체 생산성 향상에 기여하는 삼성의 Photo 엔지니어가 되겠습니다.
"학부 연구생 활동 - 업무 파악 능력과 책임감"
에너지 광전변환 연구실에서 2019년 6개월 동안 학부 연구생 활동을 수행했습니다. 석, 박사 선배님들은 개인적인 연구로 학부 연구생에게는 관심을 주지 못하였고, 결국, 동기 2명이 3주 만에 포기해버렸습니다. 저는 ‘순간순간 최선을 다하자’라는 좌우명처럼 일찍이 포기하기보다 ‘연구실에 내가 기여할 수 있는 부분을 파악하고, 선배님들에게 나를 알리자’라는 목표를 세웠습니다.
다음날부터 선배님들의 일과를 관찰하였고, 실험 전 이론값 계산과 이후 측정값을 정리하시며 매일 1시간 정도의 시간이 사용되는 것을 파악하였습니다. 대학원 선배님들의 실험 외 업무를 줄여줄 수 있다고 판단한 저는 선배님에게 이 부분을 제가 담당해보고 싶다고 이야기했습니다. 이후 Origin이라는 프로그램을 익히기 위해 2주간 관련 서적과 영상 강의를 통해 공부하였고, 전공 서적에 쓰여있는 data를 입력 후 그래프를 그려 비교해보는 등의 연습을 했습니다.
결과적으로 3주 후부터는 제가 엑셀을 이용한 이론값 계산과 Origin을 통한 그래프 정리업무를 맡아 진행할 수 있었습니다. 이후 주간 장비 점검과 실험에도 참여하며 장비와 가까워질 수 있었고, OOO 선배님으로부터 “OOO, 대학원 와야지?”라는 말도 자주 듣게 되어 연구실에 있는 시간이 스트레스가 아닌 재미로 다가왔습니다.
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- 최근 사회이슈 중 중요하다고 생각되는 한가지를 선택하고 이에 관한 자신의 견해를 기술해 주시기 바랍니다.
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"초격차 유지를 위한 삼성의 3 key"
메모리 반도체 무한경쟁 시대에서 초격차 전략을 이어가기 위해 3가지 key가 필요합니다.
1) 생산성 향상과 최고의 품질 2) 전문성 있는 엔지니어 3) 다양한 글로벌 고객사 유지
3월 말, 삼성전자는 D램에 EUV를 처음 적용하여 고객사에 모듈 100만 개를 공급하였습니다. 또한, 2021년 성능과 용량을 더욱 높인 4세대 10나노급 D램(DDR5, LPDDR5) 양산과 차세대 D램의 개발계획도 발표하였습니다. 하지만 중국이 D램 분야의 투자를 확대하고 있으며, 내년 이후 경쟁사들 또한 EUV기술을 도입한 생산이 가능할 것으로 전망됩니다. 따라서 타사와의 메모리 기술 및 시장 점유율 경쟁이 가속화될 것입니다.
그러므로 삼성전자 메모리 사업부가 경쟁사와의 초격차 전략을 이어가기 위해서는 다음의 3가지 key를 갖춰야 합니다.
첫째, 생산성을 증가시키고, 최고의 품질을 제공해야 합니다. 최초 EUV기술을 활용하여 tact time을 최소화하고, 패터닝 정확도를 높여 최고의 제품으로 고객을 만족시켜야 합니다.
둘째, 전문적인 엔지니어를 양성해야 합니다. 메모리 분야 점유율 1위 유지는 전문적인 엔지니어들이 존재하였기에 가능했다고 생각합니다. 따라서 인재를 양성하여 기술우위를 확보해야 합니다.
셋째, 현재 구글, 마이크로소프트, 아마존 등 많은 글로벌 고객사를 유연하게 유지해야 합니다. 미세공정 한계를 극복한 혁신적인 기술 개발로 초고속 초절전 차세대 라인업을 적기에 출시하여, 글로벌 IT 기업 고객들로부터 비즈니스 충성도를 이끌어내야 합니다.
이중 가장 중요한 key는 전문적인 엔지니어 양성이라고 생각합니다. 각 단위 공정기술을 연구하고, 발생하는 문제를 빠르게 분석 및 해결하여 생산성을 향상하는 것이 핵심이기 때문입니다. 저도 제품 양산을 위한 공정 최적화와 수율 개선의 문제를 해결하는 전문적인 엔지니어가 되어 세계 시장에서 더 높은 점유율 확보와 경쟁사들과의 격차를 더욱 벌리는 데 기여하겠습니다.
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- 지원한 직무 관련 본인이 갖고 있는 전문지식/경험(심화전공, 프로젝트, 논문, 공모전 등)을 작성하고, 이를 바탕으로 본인이 지원 직무에 적합한 사유를 구체적으로 서술해 주시기 바랍니다.
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P 기술팀 엔지니어 직무를 수행하기 위해서는 광학 이론, Photo 공정의 이해와 함께 공정 전체 Flow를 알아야 한다고 생각합니다.
"8대 공정실습과 증착 프로젝트"
‘반도체 공정 및 캡스톤디자인’ 수업을 통해 주 3시간씩 class 10의 클린룸에 들어가 증착-Photo-Etch 실습을 진행하였고, 소자를 제작하였습니다. 하지만 소자에 이물질, 패터닝 오류, 그리고 식각의 문제가 발생하였고, 완성도에 큰 영향을 미치는 것을 확인하였습니다. 이를 통해 이론과 실제의 차이가 크다는 것을 몸소 느낄 수 있었습니다.
또한, 1개월간 class 10의 클린룸에서 200Å의 Mo 박막을 증착하는 과제를 수행하였습니다. 처음 다루는 Sputter 장비였기에 철저한 사전 준비의 필요성을 느꼈습니다. 따라서 3주 동안 다른 학교 교수님의 박막 공정 온라인강의 12개를 수강하였고, 매주 정현재 석사님에게 20분간 질문과 조언을 구하였습니다.
최종적으로 남들보다 7일 빠르게 공정변수 (증착 시간 142s, 플라즈마 인가 전력 160W)를 설정할 수 있었고, 200Å 두께와 쉽게 벗겨지지 않는 우수한 박막을 구현하였습니다. 이를 통해 공정 스펙을 규정 및 수행하기 위해서는 사전 준비와 질문을 망설이지 않는 자세가 필요하다는 것을 깨닫게 되었습니다.
"Photolithography 이해"
광학을 수강하며 기하광학과 전자 파동광학의 기초를 다졌습니다. 또한, 클린룸에서 노광 및 스핀 코팅 시간에 따라 소자의 특성이 파괴되는 것을 보고 Photolithography에 호기심을 느꼈습니다. 이를 계기로 NCS 반도체 Photolithography 공정강의를 수강하며 EUV의 필요성 및 DUV와의 차이점을 공부하였습니다. 더 나아가, Photo 공정이 직면한 성능의 한계와 해결을 위한 Resolution 및 DOF의 개선 방안도 고안해보았습니다. 위 경험을 바탕으로 Photo 엔지니어로 빠르게 현업에 적응하고, 수율/품질 개선과 공정기술 개발에 기여하겠습니다.
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