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[의뢰회원사] - 반도체 및 디스플레이용 고분자 및 화합물을 개발, 제조, 판매하는 업체 - 반도체 소재 다양화, 각종 코팅제 등 첨단재료 사업으로 확장 - 반도체 소재 중 포토공정과 관련된 기술 분야에서 꾸준한 활약
- 회사 대표이사 KAIST 화학과(유기화학) 석,박사 학위 취득 전자재료 관련 국내외 특허 190편 출원 특허기술상, 장영실상, 산업포장 수상 前 금호석유화학 전자재료 연구소장
반도체제조 공정용 소재 고분자(Resin), 감광제(PAG), 첨가제(Additive) 등의 재료와 차세대 반도체 공정에 필수적인 SOC용 Resin, BARC용 Resin, Acid Generators 등의 재료 Photoresist용 재료 반도체 패턴 형성(photolithography)의 핵심 공정인 노광공정에 사용되는 감광성 물질로서 고분자(Resin), 감광제(PAG), 첨가제(Additive)등의 재료 BARC용 Resin 유기하부반사방지막(Bottom-Anti-Reflective Coating) Photolithography 공정시 빛의 반사 및 산란을 방지하기 위하여 Photoresist층 하단에 코팅하여 공정마진 향상 및 미세회로를 구현할 수 있는 물질 SOC용 Resin Spin-on-Carbon. 반도체의 선 폭이 좁아짐에 따라 얇은 PR층의 etch내성을 보완하기 위한 Hardmask 공정으로 차세대 반도체 공정에 필수적인 재료 Acid Generators PAG(Photo-acidgenerator) : ArF, KrF, i-line에서 빛에 의해 감응하는 산발생제, 다양한 제품군 보유(Sulfonium, loonium, Oxime계열, etc.) TAG(Thermal-acidgenerator) : 열에 의해 발생하는 산 발생제, 분해온도가 다양한 제품군 확보, 그 외 용도에 맞는 물질 합성 가능(Tdec 130~220℃) 코팅용 소재 고경도 하드 코팅 소재리한 작업성으로 쉽게 코팅이 가능한 차량용 코팅 차량용 코팅 소재 가정용 코팅 소재가정용 코팅 소재 등
[채용분야]
-근무지:충북 오창 -학력:대졸이상 -업무 및 경력: .성실하고 근면하신 분 .반도체 관련 화학 소재 합성
[자격요건] |
