[이탈리아에서 구두발표를 해보다]
2015년 5월 이탈리아 로마에서 개최된 HOPV(Hybrid and Organic Photovoltaics Conference)에서 영어로 ‘oral발표’를 하였습니다. 학계의 전문가들이 많이 참석하는 학회에 강단 앞에 서서 직접 발표를 해야 하는 부담감은 저에게 큰 압박을 주었습니다. poster를 발표한 경험은 있었지만 태양전지를 전공하는 연구자들 앞에서 저의 결과를 논리정연하게 전달해야 한다는 생각 때문입니다.

하지만 연구실을 대표하여 발표를 한다는 생각으로 책임감을 가지고 presentation 양식, 실험을 하게 된 배경, 실험 결과에 대하여 기초적인 내용부터 차근차근 준비를 해나갔습니다. 필요한 이론은 선행연구를 통하여 공부를 하였고, 전체적인 틀과 내용에 대해서는 실험실 선배와 동기들과 협력하여 진행을 하니 하나씩 틀이 맞춰져 나가는 것을 확인할 수 있었습니다.

영어 대본과 발표에 대해서는 특히 더 신경을 써가며 명확한 전달을 위해 준비를 하였으며 교수님과 리허설까지 수차례 진행하여 발표 당일 날 당당한 모습으로 청중들에게 발표하였습니다.

이러한 경험을 통하여 첫 번째 ‘불가능은 없다’라는 것과 두 번째 ‘팀워크의 중요성’을 깨달았습니다. 미션이 주어졌을 때 시작할 당시에는 준비한 대본을 읽으면서도 긴장을 하여 땀을 흘리며 전달을 제대로 하지 못하였지만 한 단계씩 문제를 극복하기 위한 노력을 통하여 불가능을 가능으로 바꾸어 놓았으며 결국 준비한 내용들은 완벽한 결과로 도출되었습니다. 또한 발표를 혼자 준비를 하기보다는 경험과 능력이 많은 선후배와 협력을 한다면 효율적으로 일을 해결 할 수 있다는 것을 깨달았습니다.

이러한 경험은 ‘SK하이닉스’에 입사 후 미션이 주어졌을 때 진취적으로 도전하고 선 후배 사원들과 소통하여 효율적인 업무를 수행하는데 값진 밑거름이 될 것이라고 확신합니다.

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[문제의 원리를 알면 간단한 방법으로도 해결할 수 있다.]
대학원에서 ‘페로브스카이트’라는 구조를 가진 유무기 복합물에 대한 고품질 박막 코팅 공정에 대한 연구를 하였습니다. 하지만 필름이 높은 상대습도 상태에서는 고 품질의 박막이 형성되지 않는 문제가 나타났으며 이러한 문제가 나타나는 원인과 이를 해결하는 방법에 대하여 알아보았습니다.

공정에서 습도에 의해 왜 필름의 질이 저하되는가에 분석을 하기위하여 단계별 필름의 형상부터 확인하였습니다. FE-SEM 장비 분석을 이용하여 미세한 필름의 형태를 확인하였고 그 결과 낮은 습도상태에서와 필름의 형성 초기에 차이점을 발견하였습니다.

자세한 원인을 알아보기 위하여 배경이론에 대하여 조사를 하였으며, ‘Nucleation & Crystal growth` 이론에 의하면 필름의 성장 현상은 3가지 모델로 표현이 되며 첫 번째, `layer growth(Frank-van der Merwe)` 두 번째 `island growth(Volmer-Weber)` 세 번째, `Stranski-Krastanov growth`로 나누어진다는 것을 확인하였습니다.

필름이 세 번 째 모델로 형성될 경우 고품질의 박막이 만들어지지만 `island growth` 모델로 표면이 형성된 것을 확인하였습니다. 원인은 상대습도가 높아 필름 코팅 중에 기판에서 증발이 활발히 발생하지 못하여 소수의 핵들이 만들어져 뭉치려는 경향이 나타났기 때문입니다.

따라서 핵 생성을 높이는 방법을 생각하였으며 다양한 방법 중에 기판의 온도를 조절하는 것을 선택하였습니다. 이유는 용액의 빠른 증발을 유도하여 많은 핵생성을 이끌어내려고 했기 때문입니다. 필름을 코팅하기 전, 기판의 온도를 증가시킨 결과 균질하며 결정성이 좋은 필름을 만들 수 있었고 결과를 토대로 SCI 저널에 논문을 개재 하였습니다.

이러한 경험을 토대로 ‘반도체를 공정, 연구 개발 시’에도 근본 원인부터 확인하여 근본적인 원리를 토대로 창의적인 공정 기술 개발에 주력하겠습니다.

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[New memory 세계 최초 상용화, 제가 해보겠습니다.]
R&D 사업부에 입사하여 New memory 개발에 관한 연구를 하고 싶습니다. 첫 번째, 반도체에 대한 전문적인 지식을 쌓기 위하여 학부연구생을 포함하여 4년간의 연구기간 동안 실리콘 기판 위에 전해도금 방법을 통한 구리필름 코팅, 유리 기판 위에 스핀코팅 방법을 통한 유무기 복합 페로브스카이트 필름 공정 연구를 하였습니다.

학부 생 때 시작한 반도체 미세공정 연구는 ‘서울대학교 미세공정 연구실’에서 실험의 기초부터 배울 수 있었으며 구리와 은을 동시에 코팅하기 위한 새로운 도금 기술, 그리고 코발트 seed layer가 있는 Si 기판 위에 구리 도금 기술 등을 연구하였습니다.

두 번째, 반도체에 관한 기술의 원리 이해도를 높이기 위하여 관련 강의와 교육을 수강하였습니다. 반도체 연구를 하기 위해서는 선행 기술도 중요하지만, 기술의 원리를 이해하기 위한 기초 학문공부가 필요하다고 느껴 ‘반도체물성론’, ‘반도체재료’, ‘반도체집적회로공정’ 등 핵심적인 이론에 대하여 공부를 하였습니다.

또한 전문적인 지식과 기술을 학습하기 위하여 ‘서울대학교 반도체 공동연구소’에서 주관하는 ‘반도체 공정교육’을 수강하였습니다. 이러한 기초지식에 대한 이해는 연구 분야에 도움이 되어 논문을 작성하는 핵심 기술로 적용되었습니다.

두 분야에서 노력한 결과 학부 성적 4.03, 대학원 성적 3.94를 받을 수 있었으며 공동저자를 포함하여 3편의 SCI 논문, 그리고 해외 학회 발표 2번의 결과를 이뤄냈습니다.

SK하이닉스는 R&D 사업부에서 new memory기술에 관하여 연구를 활발히 한다는 것을 하이닉스 블로그 영상을 통하여 접하였습니다. 제가 연구하였던 페로브스카이트 물질은 특정온도에서 상이 바뀌며, 강 유전성 특성 그리고 Resistive memory 특성까지 있는 물질이었습니다. 이러한 경험을 바탕으로 ‘SK 하이닉스’에서 새로운 메모리 반도체 개발에 역량을 발휘하겠습니다.

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